Halfgeleider Alumina Keramische Plaat Dubbele Oppervlakte Slijp Lapping Oplossing

Machinemodel:  YH2M84100 Dubbele schijf slijp- en lapmachine

Werkstuk:  Halfgeleider Alumina Keramische Plaat-59*59* T 26.45mm

Eis:  Vlakheid 0.003 mm, parallelliteit 0.007 mm, ruwheid Ra0.8 μm;

Resultaten:  Vlakheid ≤ 0.001 mm, parallelliteit ≤ 0.002 mm, Ra 0.8 μm;

• Belangrijkste toepassingen van halfgeleider-alumina-keramiek:

    1. Elektronisch verpakkingssubstraat: wordt gebruikt voor IC-verpakkingen en vermogensmodules, met hoge isolatie en goede thermische geleidbaarheid. 

    2. Chiphouder: biedt mechanische ondersteuning, isolatie en thermische stabiliteit. 

    3. Radiatormateriaal: wordt gebruikt voor apparaten met een hoog vermogen om de warmteafvoer te verbeteren. 

   4. Vacuümapparaten en sensoren: worden gebruikt in omgevingen waar een hoge hittebestendigheid en corrosiebestendigheid vereist zijn.

• Vereisten voor het slijpen en polijsten van keramische platen van halfgeleideraluminiumoxide:

1.  Slijpen: Een diamant slijpschijf is nodig om een ​​zeer nauwkeurige bewerking van materialen met een hoge hardheid te garanderen en de vlakheid en ruwheid te controleren.

2.  Polijsten: Meerstaps fijnbewerking om een ​​oppervlakteafwerking te garanderen en aan te passen aan zeer nauwkeurige halfgeleidertoepassingen.

3. Controle van de afmetingen: controleer de toleranties strikt om thermische vervorming en dimensionale afwijkingen te voorkomen en zo de consistentie van het product te waarborgen.